高等級鉆石生長的工藝是采用化學氣相沉積（CVD）和微波等離子體CVD（MPCVD）技術，另外CVD和MPCVD工藝還可用于在鉆石以外的基材上進行鉆石沉積，這為許多行業(yè)帶來了技術上的進步，如光學、計算機科學和工具生產(chǎn)。

在采用CVD和MPCVD工藝進行鉆石生長過程中，需要嚴格調(diào)節(jié)和控制CVD工藝的溫度、真空壓力和氣體成分，這三個變量中的任何一個變化或波動都會影響鉆石的生長速度、純度和顏色。這三個變量在實際工藝中分別代表了溫度、真空壓力和工作氣體的質(zhì)量流量，即在CVD工藝中一般是在進氣口處采用氣體質(zhì)量流量控制器控制氫氣和甲烷以達到設定的混合氣體成分，通過溫度傳感器和加熱裝置來調(diào)節(jié)和控制工作腔室內(nèi)的溫度，最后在出氣口處通過真空計和電動閥門來調(diào)節(jié)和控制工作腔室內(nèi)的真空壓力。

 針對以上氣體質(zhì)量流量的控制環(huán)節(jié)，格里爾斯GRYLLS開發(fā)了CVD（MPCVD)金剛石行業(yè)專用特氣氣路盤，該產(chǎn)品以隔膜閥，單向閥，EP級彎頭，微米級過濾器，質(zhì)量流量控制器MFC等零部件實現(xiàn)對多種工藝氣體的精確流量控制。

  經(jīng)過多年研發(fā)和經(jīng)驗的沉積，格里爾斯GRYLLS質(zhì)量流量計的氣路盤，具有高密封性，高精度，集成度高等優(yōu)點，產(chǎn)品成熟穩(wěn)定已經(jīng)在多個CVD(MPCVD）生產(chǎn)企業(yè)得到應用，為用戶減少了研發(fā)、組裝、驗證時間，大大降低了用戶的總體生產(chǎn)成本。

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